真空充氮烤箱是一種特殊的工業(yè)烤箱，它結(jié)合了真空技術(shù)和充氮技術(shù)，為烘烤過(guò)程提供了一個(gè)無(wú)氧或低氧的環(huán)境。以下是關(guān)于真空充氮烤箱的詳細(xì)介紹：
 

　　一、工作原理
 

　　真空充氮烤箱通過(guò)高精度的真空泵將烤箱內(nèi)部的氣體排出，形成低氣壓或真空環(huán)境。然后，通過(guò)向烤箱內(nèi)部充入高純度氮?dú)?，排除空氣中的氧氣、水分等雜質(zhì)，從而達(dá)到保護(hù)被加熱物品的目的。在這種環(huán)境下，烤箱內(nèi)的物料或產(chǎn)品能夠在較低的溫度下實(shí)現(xiàn)快速烘干、固化或退火，同時(shí)避免了傳統(tǒng)烘烤方式中因氧氣存在而導(dǎo)致的氧化、變色和性能下降等問(wèn)題。

　　二、特點(diǎn)
 

　　無(wú)氧環(huán)境：通過(guò)真空和充氮技術(shù)，創(chuàng)造一個(gè)無(wú)氧或少氧的烘烤環(huán)境，有效防止材料氧化。
 

　　高效烘烤：在真空狀態(tài)下，氮?dú)庾鳛闊醾鲗?dǎo)介質(zhì)，能夠提高烘烤效率，使產(chǎn)品受熱均勻。
 

　　高精度控制：采用先進(jìn)的控制系統(tǒng)，能夠精確控制烘烤溫度和時(shí)間，滿(mǎn)足不同產(chǎn)品的烘烤需求。
 

　　廣泛應(yīng)用：適用于多種材料的烘烤、固化和退火處理，如電子芯片、光電材料、硅晶片、電池、線路板等。
 

　　三、應(yīng)用領(lǐng)域
 

　　電子工業(yè)：真空充氮烤箱在電子芯片制造領(lǐng)域發(fā)揮著重要作用，能夠有效抑制芯片在烘烤過(guò)程中的氧化反應(yīng)，保證芯片的性能和質(zhì)量。同時(shí)，它也被廣泛應(yīng)用于光電、硅晶片、電池、線路板等微電子產(chǎn)業(yè)中。
 

　　食品加工：在食品加工行業(yè)中，真空充氮烤箱能夠用于真空包裝環(huán)節(jié)，幫助排除包裝袋中的氧氣，延長(zhǎng)食品的保鮮期。此外，在烘焙過(guò)程中，充氮技術(shù)能減少食品被氧化的可能性，提高烘焙效果，使食品更加松軟、口感更佳。
 

　　金屬加工：在金屬加工領(lǐng)域，真空充氮烤箱可以防止金屬在高溫下氧化和脫碳，提高金屬產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。
 

　　制藥領(lǐng)域：在制藥過(guò)程中，真空充氮烤箱能夠確保藥品在熱處理過(guò)程中的純度和穩(wěn)定性，滿(mǎn)足制藥行業(yè)的嚴(yán)格要求。
 

　　四、維護(hù)與保養(yǎng)
 

　　定期檢查：定期檢查真空泵、氮?dú)饪刂葡到y(tǒng)和加熱元件等關(guān)鍵部件的工作狀態(tài)，確保其正常運(yùn)行。
 

　　清潔保養(yǎng)：定期清潔烤箱內(nèi)部和外部，去除灰塵和污垢，保持烤箱的清潔和衛(wèi)生。
 

　　安全操作：在操作真空充氮烤箱時(shí)，應(yīng)嚴(yán)格遵守安全操作規(guī)程，避免發(fā)生意外事故。
 

　　五、技術(shù)參數(shù)
 

　　規(guī)格型號(hào)： HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000
 

　　內(nèi)箱尺寸(cm)： 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100
 

　　外形尺寸(cm)： 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188
 

　　總功率： 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW
 

　　使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ
 

　　溫度偏差： ±3% ±5% ±8%
 

　　真空泵： 4升 8升
 

　　溫度范圍(選擇)：
 

　　□ RT+10℃～200℃
 

　　□ RT+10℃～250℃
 

　　□ RT+20℃～300℃
 

　　真空度范圍： 0～-100KPa
 

　　控制方式： 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制
 

　　結(jié)構(gòu)： 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)
 

　　內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼
 

　　外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級(jí)烤漆處理
 

　　充氮?dú)庋b置： 1)氮?dú)鈮毫Ψ秶?～4Kg左右；
 

　　2)流量計(jì)：量程為10L/min-100Lmin；
 

　　3)氣管配置：∮8mm氣管快插口；
 

　　4)充氮控制方式：采用時(shí)間自動(dòng)控制或手動(dòng)控制；
 

　　5)排氣閥：充氮?dú)獾耐瑫r(shí)打開(kāi)排氣閥，防止箱內(nèi)高壓；
 

　　6)氮?dú)猓旱獨(dú)庠从脩?hù)自備。
 

　　綜上所述，真空充氮烤箱作為一種先進(jìn)的熱處理設(shè)備，在多個(gè)行業(yè)中都展現(xiàn)出了其魅力和廣泛的應(yīng)用前景。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展，它將在未來(lái)發(fā)展中發(fā)揮更加重要的作用。