一、用途簡介：

    真空充氮烤箱適用于光電、硅晶片、電子芯片、電池、線路板、電子電器、金屬加工、制藥等各行業(yè)作無氧真空快速干燥、退火等高溫處理，可充惰性氣體防止產(chǎn)品氧化。深受生產(chǎn)線、實驗室及科研單位喜愛。

二、主要技術指標：

規(guī)格型號： HE-WDN2-72 HE- WDN2-64 HE- WDN2-125 HE- WDN2-216 HE- WDN2-512 HE- WDN2-1000

內(nèi)箱尺寸(cm)： 30×30×30 40×40×40 50×50×50 60×60×60 80×80×80 100×100×100

外形尺寸(cm)： 70×55×125 70×66×145 78×77×155 90×86×165 115×108×185 136×166×188

總功率： 3.5KW 4.5KW 5.5KW 9.0KW 15.0KW 20.0KW

使用電源： AC 單相 三線 220V 50HZ AC 三相 五線 380V 50HZ

溫度偏差： ±3% ±5% ±8%

真空泵： 4升 8升

溫度范圍(選擇)：

□ RT+10℃～200℃

□ RT+10℃～250℃

□ RT+20℃～300℃

真空度范圍： 0～-100KPa

控制方式： 按鍵式控制或PLC觸摸屏控制

結構： 一體式結構（內(nèi)置真空泵）或分體式（外置真空泵）

內(nèi)箱材質(zhì)： SUS304#不銹鋼

外箱材質(zhì)： SECC鋼板高級烤漆處理

充氮氣裝置： 1）氮氣壓力范圍：3～4Kg左右；

2）流量計：量程為10L/min-100Lmin；

3）氣管配置：∮8mm氣管快插口；

4）充氮控制方式：采用時間自動控制或手動控制；

5）排氣閥：充氮氣的同時打開排氣閥，防止箱內(nèi)高壓；

6）氮氣：氮氣源用戶自備。